연구용 ICVD
연구용 ICVD
연구용 ICVD 시스템은 나노 스케일에서 정밀하고 균일한 코팅을 구현하도록 설계되어
첨단 소재 연구에 최적화되어 있습니다. 유연한 공정 제어와 안정적인 재현성을 통해
연구자들이 새로운 응용 분야를 탐색하고,
코팅 조건을 최적화하며, 실험실 환경에서 성능을 검증할 수 있도록 지원합니다.
연구용 ICVD 시스템은 나노 스케일에서 정밀하고 균일한 코팅을 구현하도록 설계되어 첨단 소재
연구에 최적화되어 있습니다. 유연한 공정 제어와 안정적인 재현성을 통해 연구자들이 새로운 응용 분야를 탐색하고, 코팅 조건을 최적화하며, 실험실 환경에서 성능을 검증할 수 있도록 지원합니다.
연구용 ICVD 시스템은 나노 스케일에서 정밀하고 균일한 코팅을 구현하도록 설계되어
첨단 소재 연구에 최적화되어 있습니다. 유연한 공정 제어와 안정적인 재현성을 통해
연구자들이 새로운 응용 분야를 탐색하고, 코팅 조건을 최적화하며,
실험실 환경에서 성능을 검증할 수 있도록 지원합니다.
연구용 ICVD (D4L-iH2)
연구용 ICVD (D4L-iH2)
연구용 ICVD (D4L-iH2)
코팅 속도 : 1–100 nm/min
(기판 소재에 따라 다름)
코팅 속도 : 1–100 nm/min
(기판 소재에 따라 다름)
코팅 속도 : 1–100 nm/min
(기판 소재에 따라 다름)
코팅 균일도 : 두께 편차 ±10% 이내
(유효 면적 기준)
코팅 균일도 : 두께 편차 ±10% 이내
(유효 면적 기준)
코팅 균일도 : 두께 편차 ±10% 이내
(유효 면적 기준)
코팅 영역 : 200 mm × 200 mm
코팅 영역 : 200 mm × 200 mm
코팅 영역 : 200 mm × 200 mm
챔버 압력 : 50 ~ 500 mTorr
(공정 중 총 압력)
챔버 압력 : 50 ~ 500 mTorr
(공정 중 총 압력)
챔버 압력 : 50 ~ 500 mTorr
(공정 중 총 압력)
냉각 스테이지 온도 : 10 ~ 50 °C
냉각 스테이지 온도 : 10 ~ 50 °C
냉각 스테이지 온도 : 10 ~ 50 °C
필라멘트 온도 : 150 ~ 300 °C
필라멘트 온도 : 150 ~ 300 °C
필라멘트 온도 : 150 ~ 300 °C
캐니스터 온도 : 상온 ~ 100 °C
캐니스터 온도 : 상온 ~ 100 °C
캐니스터 온도 : 상온 ~ 100 °C
공급 라인 온도 : 상온 ~ 150 °C
공급 라인 온도 : 상온 ~ 150 °C
공급 라인 온도 : 상온 ~ 150 °C
챔버 온도 : 상온 ~ 150 °C
챔버 온도 : 상온 ~ 150 °C
챔버 온도 : 상온 ~ 150 °C
캐니스터 구성 : 4 ea (각 30 ml 용량)
자동 개폐, 최대 3종 공중합체 지원
캐니스터 구성 : 4 ea (각 30 ml 용량)
자동 개폐, 최대 3종 공중합체 지원
캐니스터 구성 : 4 ea (각 30 ml 용량)
자동 개폐, 최대 3종 공중합체 지원
캐니스터 구성 : 4 ea (각 30 ml 용량)
자동 개폐, 최대 3종 공중합체 지원
D4L-iH2 ICVD 코팅 – 연구용 코팅 기술의 새로운 정의
D4L-iH2 ICVD 코팅
연구용 코팅 기술의 새로운 정의
D4L-iH2 ICVD 코팅 – 연구용 코팅 기술의 새로운 정의
D4L-iH2는 박막 코팅 기술의 새로운 기준을 제시하기 위해 설계된 Deepsmartech의 첨단 ICVD(Initiated Chemical Vapor Deposition)
연구 장비입니다. 기존 CVD 시스템과 달리, 비용 효율성, 공정 확장성, 탁월한 정밀성을 모두 갖추었으며, 컴팩트하고
사용자 친화적인 디자인을 제공합니다. 반도체, 배터리, 수소 연료전지, 태양전지 등 다양한 응용 분야를 지원하는 D4L-iH2는 안정성,
안전성, 재현성을 보장하여 융합 연구에 적합합니다. 자동화된 챔버와 정밀 공급 시스템을 통해 모든 단계에서 신뢰성 있는 운용을
실현합니다. 또한 코팅 속도, 균일도, 온도, 압력 등 주요 ICVD 파라미터를 세밀하게 제어할 수 있어 R&D 주기를 가속화하고 변화하는
소재 요구에 유연하게 대응합니다. 이를 통해 차세대 코팅 연구에서 장기적인 가치를 제공합니다.
D4L-iH2는 박막 코팅 기술의 새로운 기준을 제시하기 위해 설계된 Deepsmartech의 첨단 ICVD(Initiated Chemical Vapor Deposition)연구 장비입니다. 기존 CVD 시스템과 달리, 비용 효율성, 공정 확장성, 탁월한 정밀성을 모두 갖추었으며, 컴팩트하고 사용자 친화적인 디자인을 제공합니다.
반도체, 배터리, 수소 연료전지, 태양전지 등 다양한 응용
분야를 지원하는 D4L-iH2는 안정성, 안전성, 재현성을
보장하여 융합 연구에 적합합니다. 자동화된 챔버와 정밀
공급 시스템을 통해 모든 단계에서 신뢰성 있는 운용을 실현합니다.
또한 코팅 속도, 균일도, 온도, 압력 등 주요 ICVD 파라미터를 세밀하게 제어할 수 있어 R&D 주기를 가속화하고 변화하는 소재 요구에 유연하게 대응합니다.이를 통해 차세대 코팅 연구에서 장기적인 가치를 제공합니다.
D4L-iH2는 박막 코팅 기술의 새로운 기준을 제시하기 위해 설계된
Deepsmartech의 첨단 ICVD(Initiated Chemical Vapor Deposition) 연구 장비입니다. 기존 CVD 시스템과 달리, 비용 효율성, 공정 확장성, 탁월한 정밀성을 모두 갖추었으며,
컴팩트하고 사용자 친화적인 디자인을 제공합니다.
반도체, 배터리, 수소 연료전지, 태양전지 등 다양한 응용 분야를 지원하는 D4L-iH2는
안정성, 안전성, 재현성을 보장하여 융합 연구에 적합합니다. 자동화된 챔버와 정밀 공급
시스템을 통해 모든 단계에서 신뢰성 있는 운용을 실현합니다.
또한 코팅 속도, 균일도, 온도, 압력 등 주요 ICVD 파라미터를 세밀하게 제어할 수 있어
R&D 주기를 가속화하고 변화하는 소재 요구에 유연하게 대응합니다.
이를 통해 차세대 코팅 연구에서 장기적인 가치를 제공합니다.